申請?zhí)枺?00820046311.1
名稱:用于浸鍍的電鍍裝置
公開(公告)號:CN201193251
公開(公告)日:2009.02.11
主分類號:C25D5/00(2006.01)I
申請(專利權)人:富港電子(東莞)有限公司;正崴精密工業(yè)股份有限公司
地址:523455廣東省東莞市東坑鎮(zhèn)工業(yè)大道
發(fā)明(設計)人:李洪建;鄭寧朗;徐國華
摘要
本實用新型公開了一種電鍍裝置,其包括一電鍍槽和一遮蔽體。電鍍槽具有一底壁及垂直連接底壁的側壁,底壁和側壁圍成一電鍍空間。遮蔽體置于電鍍空間內(nèi)并裝設在側壁上,且所述遮蔽體上至少開設有一開口。本實用新型電鍍裝置因由遮蔽體遮蔽待鍍金屬件,從而電鍍液在待鍍金屬件的對應遮蔽體的開口的區(qū)域處可自由流動,而在遮蔽體遮蔽待鍍金屬件的區(qū)域處則不能自由流動,從而可使被遮蔽體遮蔽的待鍍金屬件的區(qū)域處的金屬鍍膜的厚度小,從而節(jié)省電鍍材料。
名稱:用于浸鍍的電鍍裝置
公開(公告)號:CN201193251
公開(公告)日:2009.02.11
主分類號:C25D5/00(2006.01)I
申請(專利權)人:富港電子(東莞)有限公司;正崴精密工業(yè)股份有限公司
地址:523455廣東省東莞市東坑鎮(zhèn)工業(yè)大道
發(fā)明(設計)人:李洪建;鄭寧朗;徐國華
摘要
本實用新型公開了一種電鍍裝置,其包括一電鍍槽和一遮蔽體。電鍍槽具有一底壁及垂直連接底壁的側壁,底壁和側壁圍成一電鍍空間。遮蔽體置于電鍍空間內(nèi)并裝設在側壁上,且所述遮蔽體上至少開設有一開口。本實用新型電鍍裝置因由遮蔽體遮蔽待鍍金屬件,從而電鍍液在待鍍金屬件的對應遮蔽體的開口的區(qū)域處可自由流動,而在遮蔽體遮蔽待鍍金屬件的區(qū)域處則不能自由流動,從而可使被遮蔽體遮蔽的待鍍金屬件的區(qū)域處的金屬鍍膜的厚度小,從而節(jié)省電鍍材料。










