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摘要：采用正交實驗對AZ31鎂合金在堿性電解液中進行陽極氧化的工藝參數(shù)進行優(yōu)化。考察了氧化時間、電流密度、脈沖頻率和占空比對陽極氧化膜性能的影響，獲得最佳陽極氧化工藝參數(shù)為：氧化時間15min，電流密度1.0A/dm2，脈沖頻率200Hz，占空比10%，采用射線衍射儀（xRD）、掃描電鏡（SEM）和動電位極化曲線等檢測手段研究了陽極氧化膜的結構、表面形貌和耐蝕性。結果表明：經優(yōu)化工藝制得的陽極氧化膜，其主要成份為MgO,Al2O3和 MgAl2O4，膜層孔隙分布均勻、致密，耐蝕性大幅提高。
