含有納米微粒的鎳-磷合金基復(fù)合鍍層的制備方法.pdf

【專利號(申請?zhí)?】200510023378.4

【公開(公告)號】CN1676674

【申請人(專利權(quán))】上海大學(xué)

【申請日期】2005-1-17 0:00:00

【公開(公告)日】2005-10-5 0:00:00

本發(fā)明涉及一種含有納米SiO₂微粒的鎳-磷合金基復(fù)合鍍層的制備方法，屬金屬電鍍工藝技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明采用電沉積鍍層的方法，電鍍液的組成為：NiSO₄·6H₂O300g/L，NiCl₂·6H₂O 45g/L，H₃BO₃40g/L，H₃PO₃15 g/L，pH值為1～2，其中溶劑為去離子水或蒸餾水；另外添加經(jīng)處理的納米SiO₂粉狀微粒，添加量為10g/L；添加前，脈沖電沉積鍍層方式中，陽極為大面積純鎳板，以鍍件為陰極板，通入脈沖電流，平均電流密度為5A/dm²，脈寬為t_on＝1ms，占空比為1∶7，電鍍液的溫度保持為60℃；最后可在金屬基底材料上得到含有納米SiO₂微粒的鎳-磷和金基復(fù)合鍍層。本發(fā)明方法所得的復(fù)合鍍層具有較高的硬度，而且鍍層均勻平整，形貌結(jié)構(gòu)也較好。

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