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電鍍過程中常見的孔化電鍍故障分析與處理:氣泡造成的金屬化孔鍍層空洞

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2011-08-22??瀏覽次數(shù):1075 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:電鍍過程中常見的孔化電鍍故障分析與處理:氣泡造成的金屬化孔鍍層空洞

出現(xiàn)這種故障的原因有:孔中氣泡的存在,阻礙鍍液或活化液層積,最終造成金屬化孔內(nèi)鍍層空洞。從氣泡的裹入來說有外部引入和內(nèi)在產(chǎn)生兩種情況。外來氣泡的引入,有可能是在板子進入槽中時,或振動、搖擺時進入通孔中的。也有一些氣泡是由化學(xué)鍍銅液中,副反應(yīng)產(chǎn)生氫氣引起的。

 

氣泡引起的金屬化孔鍍層空洞特征是:氣泡引起的金屬化孔鍍層空洞,常常位于孔的中央,通過金相切片可見其呈對稱分布,即對面孔壁表面有同樣寬度范圍內(nèi)無銅層。

 

最有效的避免氣泡進入孔中的方法為振動和碰撞。同時,增加板面間隔,增加陰極移動距離也十分重要。化學(xué)鍍銅槽中空氣攪拌和活化槽撞擊或振動,對避免氣泡進入孔中作用不大。此外,增加化學(xué)沉銅潤濕性,前處理槽位避免氣泡也十分重要。

 

鍍液的表面能量與氫氣氣泡在跑出孔中或破滅前的尺寸有關(guān),顯然希望氣泡在變大前能夠排除孔外,以免阻礙溶液的交換,造成孔中鍍層缺陷。

 

另外,有機干膜造成的金屬化孔鍍層空洞,往往位于孔口,即位于離板面較近的位置,大約50μm70μm寬,離板面50μm70μm。邊緣空洞可能位于板一面或兩面,造成完全或部分開路。造成干膜抗蝕劑入孔的原因是:有機干膜覆蓋的孔,孔中氣壓比大氣壓要低20%,貼膜時,孔中空氣熱,當(dāng)空氣冷到室溫時,氣壓降低。因而,壓差導(dǎo)致抗蝕劑慢慢流入孔中,直至顯影。影響干膜抗蝕劑流動的速度和深度的因素有:貼膜前孔里有水或水氣;高厚徑比小孔;貼膜與顯影時間太長等。水氣停在孔中是其中的主要原因,水分可以降低抗蝕劑的黏度,使其較快流人孔中;高厚徑比小孔較易發(fā)生空洞問題,這是由于這種孔較難干燥;小孔中的抗蝕劑也較難顯影,顯影前時間較長也會使更多抗蝕劑流入孔中。

 

因此,由于抗蝕劑進入孔內(nèi),顯影時未去掉,并且阻礙了銅、錫電鍍。當(dāng)抗蝕劑在去膜時去掉后,下部的銅層被裸露出來,因而一經(jīng)蝕刻,銅層被蝕刻掉,就形成了鍍層空洞。

 

避免孔口空洞產(chǎn)生的措施主要有:在表面處理后增加烘干程度,孔若干燥,就不會發(fā)生孔口空洞。再長的放置時間和顯影不佳,也不會造成孔口空洞。

 

另外,固態(tài)物(塵、棉)或有機粘污的存在,同樣也會阻礙鍍液或活化液層積,最終導(dǎo)致孔金屬化鍍層空洞。

 

總之,印制板金屬化孔鍍層故障缺陷的成因受制造工序的影響較大,有時是鉆孔工序時發(fā)生,有時是電鍍時才發(fā)生的;常常一種故障缺陷是由多種工藝條件相互影響而產(chǎn)生的,它們可能是同時作用,也可能有先后順序的作用。因此,在印制板孔金屬化鍍層出現(xiàn)故障時,要沿其工藝流程進行仔細分析,必要時可用金相切片技術(shù),準(zhǔn)確找到故障發(fā)生的根本原因。在原因分析清楚的基礎(chǔ)上,通過優(yōu)化工藝參數(shù),嚴(yán)格控制工藝及生產(chǎn)管理,排除故障現(xiàn)象,達到提高印制板金屬化孔鍍層質(zhì)量的目的。

 

出現(xiàn)這種故障的原因是:鍍液中Cu2+含量太高、H2SO4含量太低、鍍液溫度高、其他金屬雜質(zhì)離子污染鍍液、板面圖形分布不均(不對稱)、陽極無擋板屏蔽、孔口漏鍍;出現(xiàn)魚眼、板面不平呈臺階狀等。

 

排除這種故障的方法有:①稀釋鍍液,使鍍液中Cu2+含量不超過259L;②鍍液中H2S04含量不應(yīng)低于l609L,調(diào)整H2S04 Cu2+至少在101;③保持鍍液在工藝規(guī)范內(nèi);④采用05Adm210Adm2電解消除鍍液中的其他金屬雜質(zhì);⑤通過正反兩面對稱掛板,必要時加輔助陰極,以使電流分布均勻;⑥施加陽極屏蔽板,以減少電力線邊緣效應(yīng);⑦用活性炭處理鍍液中有機污染(或光亮劑太多)等。

 

 

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