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①鐵(Fe)的加入，有助于活潑金屬鉻(Cr)沉積。
②溴化鈉的濃度影響鉻的沉積。
③甲酸濃度不僅影響鉻，也影響磷沉積。因?yàn)榧姿釋?duì)鉻和次磷酸鈉的絡(luò)合具有催化作用，增強(qiáng)鍍液的穩(wěn)定性，有利于鉻和磷的放電。
④二甲基甲酰胺(DMF)和氯化銨的濃度對(duì)磷的沉積影響較大。DMF和鎳離子形成難以放電的絡(luò)合物，另一方面改變陰極表面吸附狀態(tài)，使H+容易接近陰極表面，誘導(dǎo)次磷酸(H2P02-)放電。
⑤次磷酸鈉在低濃度下，濃度變化對(duì)鍍層各組成含量影響較大。
⑥氯化鉻在高濃度下，對(duì)鍍層中各組分含量變化較大，且磷和鎳的含量趨于穩(wěn)定。
⑦氯化鎳濃度變化對(duì)鉻、磷含量的影響較大，應(yīng)盡量選取較高濃度。
⑧增大電流密度一方面有助于提高鍍液中氯化鉻濃度使用上限，使鍍層中含量上升，另一方面增大電流密度，陰極極化曲線稍正移，有利于鍍層中鉻含量提高。
⑨pH值低時(shí)，主要以鎳離子放電為主，電流效率低；pH值高時(shí)，鍍液不穩(wěn)定，pH2～3為宜。
參考文獻(xiàn)
17吳文健，曾芳仔．電沉積Ni—Cr-F}P非晶態(tài)耐蝕性合金鍍層．材料保護(hù)，l998，31
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