化學(xué)鍍銅與電鍍工藝去除環(huán)氧玷污方法

去除環(huán)氧玷污的方法分濕法和干法兩種：

第一種濕法處理：

I H2SO4-HF處理法：首先用濃硫酸浸漬處理30秒-1分鐘。使環(huán)氧基和SO4-2 反應(yīng)，產(chǎn)生溶于水的黃褐色環(huán)氧磺化物，從而除去孔壁上的環(huán)氧玷污層。然后再用HF水溶液蝕刻露出來的玻璃纖維，使之得到光滑的孔壁表面；以利于化學(xué)鍍銅。

II 高錳酸鉀氧化法：首先將多層板浸在有機溶液中，使環(huán)氧樹脂溶脹，然后再用加熱至500C 的高錳酸鉀氧化液除去溶脹的環(huán)氧權(quán)樹脂，然而在水洗時高錳酸根會分解形成二氧化錳沉積在板面上，造成二次污染，為此在高錳酸鉀處理后還需要還原處理，整體工藝比較復(fù)雜。

用濃硫酸去除環(huán)氧鉆污的處理工藝簡單可靠。去除玻璃纖維，一種是直接用濃的氫氟酸，進(jìn)行處理。另一種方法是使用鹽酸和氟化氫銨的混合物。

HCL 100m1/1

NH4HF2 200g/1

處理時間 3-4分鐘

HF蝕刻玻璃纖維之后在孔壁表面上會生產(chǎn)一層白色的氟化鈣CaF2沉淀物。為此需要用5％的HCL浸漬3-5分鐘使CaF2 和HCL反應(yīng)形成溶于水的CaF2，從而去除孔壁上的CaF2沉淀物。

第二種干法處理：

該法是用等離子蝕刻的方法在真空筒內(nèi)去除環(huán)氧玷污，由于此方法生產(chǎn)效率低，只是在特殊情況下才使用，例如制造聚酰亞胺與環(huán)氧玻璃復(fù)合的多層板，用等離子去除鉆孔孔壁上的樹脂玷污。