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摘要：為了利用柔順性材料實(shí)現(xiàn)電極位點(diǎn)與靶細(xì)胞的良好接觸，同時保證微電極的可靠性，提出了一種新的聚二甲基硅氧烷(PDMS)微電極制作方法．該方法通過在硅基表面沉積金屬層、光刻圖形化以及電鍍形成電極基本結(jié)構(gòu)，然后通過PDMS澆注、濕法刻蝕、釋放以及鍵合完成基于PDMS微電極制作．其中，微電極絕緣層制作和電極位點(diǎn)暴露采用澆注PDMS并結(jié)合外力夾壓固化和 PDMS濕法刻蝕來實(shí)現(xiàn)．使用該方法制作的PDMS電極，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、可靠性好，具有良好的貼附性．同時，通過SEM和阻抗測試對所制作的微電極進(jìn)行了表面形貌和電學(xué)性能的測試和評價．結(jié)果顯示，相對于傳統(tǒng)方法制作的PDMS微電極，電化學(xué)阻抗降低了近60％(頻率1 kHZ處)，基于該方法制作的PDMS微電極在力學(xué)和電學(xué)性能方面均具明顯優(yōu)勢．
