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電化學(xué)沉積制備的Cu(In,Ga)Se2薄膜性能研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-10-23??瀏覽次數(shù):468 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:摘要;采用電沉積制各出成分富Cu的Cu(In,Ga)Se2薄膜,將薄膜在sc氣氛中退火后采用物理氣相法(PVD)沉積少量的In、Ga調(diào)整薄膜成分

摘要;采用電沉積制各出成分富Cu的Cu(In,Ga)Se2薄膜,將薄膜在sc氣氛中退火后采用物理氣相法(PVD)沉積少量的In、Ga調(diào)整薄膜成分。通過不同測試手段分析了薄膜的成分、表面狀況、結(jié)晶質(zhì)量以及制各的太陽電池性能參數(shù)。結(jié)果表明,硒化后的CIGS薄膜成分貧Cu,表面光滑無裂紋, 晶粒尺寸增加,結(jié)晶度提高,形成單一的黃銅礦結(jié)構(gòu),制各的電池效率達(dá)到6.89%。

   電化學(xué)沉積制備的Cu(In_Ga)Se2薄膜性能研究.pdf
 

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