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電沉積Cu/Ni多層膜硬度與調(diào)制波長(zhǎng)關(guān)系的研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-09-13??瀏覽次數(shù):506 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:摘要:分別采用雙槽法和單槽法制備了不同調(diào)制波長(zhǎng)的Cu/Ni多層膜,研究了多層膜硬度與調(diào)制波長(zhǎng)之間的關(guān)系。結(jié)果表明,當(dāng)調(diào)制波長(zhǎng)大

摘要:分別采用雙槽法和單槽法制備了不同調(diào)制波長(zhǎng)的Cu/Ni多層膜,研究了多層膜硬度與調(diào)制波長(zhǎng)之間的關(guān)系。結(jié)果表明,當(dāng)調(diào)制波長(zhǎng)大于33 nm時(shí).硬度與調(diào)制波長(zhǎng)的關(guān)系符合Hall-Petch關(guān)系式;小于33 nm時(shí),偏離了Hall-Petch關(guān)系式;等于21 nm時(shí),硬度出現(xiàn)了峰值,約為HV451. 8。

   電沉積Cu_Ni多層膜硬度與調(diào)制波長(zhǎng)關(guān)系的研究.pdf
 

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