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Zn–Fe–SiO2復(fù)合電沉積中試研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-09-11??瀏覽次數(shù):499 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:摘要:ZnFeSiO2復(fù)合鍍層具有耐蝕性能優(yōu)良、無需鈍化處理等優(yōu)點,為了更好地將其應(yīng)用于生產(chǎn)實踐,進(jìn)行了電沉積ZnFeSiO2復(fù)合鍍層的

摘要:Zn–Fe–SiO2復(fù)合鍍層具有耐蝕性能優(yōu)良、無需鈍化處理等優(yōu)點,為了更好地將其應(yīng)用于生產(chǎn)實踐,進(jìn)行了電沉積Zn–Fe–SiO2復(fù)合鍍層的中試研究。論文中考察了電流密度、極間距、攪拌方式、陽極數(shù)量及排布方式、添加劑等對Zn–Fe–SiO2復(fù)合鍍層外觀的影響,還考察了鍍層的均勻性和鍍液的穩(wěn)定性,獲得了較好的技術(shù)指標(biāo)。研究結(jié)果表明,電沉積Zn–Fe–SiO2復(fù)合鍍層工藝穩(wěn)定性好,維護(hù)措施簡單方便,生產(chǎn)的環(huán)保及安全性也很好,應(yīng)用前景廣闊。

   Zn–Fe–SiO2復(fù)合電沉積中試研究.pdf
 

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