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| 登記號(hào) | 粵科成登字20080075 |
| 登記日期 | 2008-04-14 |
| 成果名稱 | 高精密光盤(pán)模具及精密模具表面類金剛石膜強(qiáng)化中試研究 |
| 成果狀態(tài) | 已批準(zhǔn)項(xiàng)目 |
| 完成單位 | 廣州有色金屬研究院、廣州市藍(lán)光精機(jī)科技有限公司 |
| 研究人員 | 侯惠君 徐 雄 林松盛 付志勇 代明江 朱霞高 李洪武 孫 利 林凱生 |
| 研究時(shí)間 | 2005.03 至2007.06 |
| 鑒定單位 | 廣東省科學(xué)技術(shù)廳 |
| 鑒定日期 | 2008.02.29 |
| 成果應(yīng)用行業(yè) | |
| 高新科技領(lǐng)域 | |
| 學(xué)科分類 | 、 |
| 簡(jiǎn)介 | 應(yīng)用領(lǐng)域和技術(shù)原理本項(xiàng)目屬表面工程技術(shù)高性能薄膜新材料領(lǐng)域。應(yīng)用的對(duì)象除了光盤(pán)模具之外，其它精密工模具及部件（如：空調(diào)器翻邊沖頭、塑料成型模具、極低溫制冷機(jī)活塞、易拉罐深拉模具、其它對(duì)磨件等）的應(yīng)用面更廣，更有市場(chǎng)。采用陽(yáng)極層流型矩形氣體離子源與非平衡磁控濺射的復(fù)合技術(shù)制備類金剛石膜和摻金屬的類金剛石膜。利用離子源離化出氬離子直接轟擊工件，使工件露出新鮮的表面，然后，在高偏壓條件下進(jìn)行金屬離子轟擊后，利用非平衡磁控濺射沉積過(guò)渡層，通入含碳?xì)怏w(如CH4)經(jīng)離子源，使其充分離化成碳離子，在自身動(dòng)量和偏壓的作用下，在工件表面發(fā)生碰撞、鍵合等作用，生成含SP3鍵的類金剛石；同時(shí)，開(kāi)啟裝有金屬靶的直流或中頻磁控濺射靶，實(shí)現(xiàn)在類金剛石中摻雜金屬。通過(guò)工藝參數(shù)與成膜質(zhì)量的規(guī)律性研究，優(yōu)化工藝條件，使生成的膜具有膜層細(xì)膩、膜/基結(jié)合強(qiáng)度好、表面硬度高、摩擦系數(shù)小等優(yōu)點(diǎn)。 .性能指標(biāo)要達(dá)到的技術(shù)、經(jīng)濟(jì)指標(biāo)： 1）單爐類金剛石膜有效制備面積Φ600mm×600mm。 2）可制備純類金剛石和摻雜金屬的類金剛石膜 3）類金剛石膜具備以下性能：沉積速率：0.5-1.0μm/h；膜硬度：>20GPa；膜/基結(jié)合力：>50N；膜層厚度：可達(dá)3μm；膜層摩擦系數(shù)：0.1-0.2。 4）處理前后工模具表面粗糙度不發(fā)生變化。 5）膜層制備溫度低于300℃。 6）膜層不會(huì)造成基體任何力學(xué)性能下降。 7）光盤(pán)模具經(jīng)DLC強(qiáng)化處理后，表面均勻、使用壽命大于200萬(wàn)次，光盤(pán)片質(zhì)量穩(wěn)定。 |
