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摘 要：本文在氯化物—硫酸鹽混合體系中，研究了在鐵基上電沉積Ni-Cr 合金的工藝，探討了主要工藝參數(shù)對合金鍍層中成分的影響，確定出電沉積鎳-鉻合金的最佳電鍍液組成和工藝條件： CrCl3·6H2O 為75g/L，陰極電流密度為16A/dm2，鍍液溫度為30℃，pH 值為2.5。在最佳條件下鐵基上所得的Ni-Cr 鍍層光亮致密、與鐵基的結(jié)合力好且Cr 的含量可高達24.1%，鍍層為晶態(tài)結(jié)構(gòu)，晶粒平均尺寸為82nm。
摘 要：本文在氯化物—硫酸鹽混合體系中，研究了在鐵基上電沉積Ni-Cr 合金的工藝，探討了主要工藝參數(shù)對合金鍍層中成分的影響，確定出電沉積鎳-鉻合金的最佳電鍍液組成和工藝條件： CrCl3·6H2O 為75g/L，陰極電流密度為16A/dm2，鍍液溫度為30℃，pH 值為2.5。在最佳條件下鐵基上所得的Ni-Cr 鍍層光亮致密、與鐵基的結(jié)合力好且Cr 的含量可高達24.1%，鍍層為晶態(tài)結(jié)構(gòu)，晶粒平均尺寸為82nm。
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