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摘 要:將納米α-Al2O3漿料ABN加入基礎(chǔ)鍍鎳液中進(jìn)行電沉積，獲得了Niα-Al2O3納米復(fù)合鍍層，并對(duì)其工藝條件進(jìn)行了較詳細(xì)的研究。結(jié)果表明：隨著鍍液中納米粉體含量的增加，沉積速率減小，而共析量和耐蝕性都是先增加，達(dá)到最大值后下降；隨著電流密度的增加，沉積速率和耐蝕性增加，而共析量先增加后下降；隨著攪拌強(qiáng)度的增大，3個(gè)測(cè)定量都是先增加后降低；隨著pH值的增大，3個(gè)測(cè)定量都是先增大，然后達(dá)到一定值后幾乎保持不變；電鍍時(shí)間對(duì)沉積速度與共析量的影響不明顯。確定了適宜的工藝范圍：納米粉體濃度為25-30g/L，電鍍時(shí)間為10-15min，電流密度為3-4A／dm2，pH值為3．7-4.5，通氣攪拌強(qiáng)度為1．8-2．2m3／h，電鍍溫度為45-55℃。
