??
摘 要:采用一種新型的分散方法促使納米SiC在鍍液中的均勻有效分布。初步探討了工藝參數(shù)對復(fù)合鍍層的影響，著重研究陰極電流密度對Ni-W-SiC納米復(fù)合鍍層表面形貌、斷面形貌、n-SiC共析量和顯微硬度的影響。結(jié)果表明：在其他工藝不變的條件下，選擇適當(dāng)?shù)碾娏髅芏瓤芍苽涑鲂蚊擦己谩⒊煞志鶆颉⒂捕容^高的納米復(fù)合鍍層。[著者文摘]
摘 要:采用一種新型的分散方法促使納米SiC在鍍液中的均勻有效分布。初步探討了工藝參數(shù)對復(fù)合鍍層的影響，著重研究陰極電流密度對Ni-W-SiC納米復(fù)合鍍層表面形貌、斷面形貌、n-SiC共析量和顯微硬度的影響。結(jié)果表明：在其他工藝不變的條件下，選擇適當(dāng)?shù)碾娏髅芏瓤芍苽涑鲂蚊擦己谩⒊煞志鶆颉⒂捕容^高的納米復(fù)合鍍層。[著者文摘]
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
