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摘 要:研究了一種可用于微反射鏡制作的光亮鍍鎳工藝。分析了微小面積電鍍時(shí)出現(xiàn)邊緣效應(yīng)的問(wèn)題,提出了增加犧牲結(jié)構(gòu)的方法提高沉積速率并降低電鍍邊緣效應(yīng)。通過(guò)脈沖微電鍍實(shí)驗(yàn),討論了電流對(duì)電鍍邊緣效應(yīng)的影響,同時(shí)分析了影響鍍層表面質(zhì)量的因素,得出了一組具有參考價(jià)值的電鍍參數(shù),電鍍出了長(zhǎng)620μm、寬500μm、厚2μm的微反射鏡表面結(jié)構(gòu),經(jīng)測(cè)量計(jì)算,該條件下,鎳的生長(zhǎng)速度約為0.1μm/m in,表面平均粗糙度約為4.376nm。[著者文摘]
