摘 要:用直流電鍍法制備了純Ni鍍層和Ni-Al2O3納米復(fù)合鍍層,并采用雙脈沖電鍍電源制備了Ni-Al2O3納米復(fù)合鍍層。通過掃描電鏡觀察了鍍層的表面微觀形貌,用X射線衍射儀分析了鍍層的微觀晶體結(jié)構(gòu),探討了Al2O3微粒對鍍層的沉積和生長過程的影響。結(jié)果表明,納米Al2O3顆粒的加入使鎳鍍層的晶體擇優(yōu)取向發(fā)生改變,晶粒細(xì)化。雙脈沖電鍍電源的引入使晶格點(diǎn)陣常數(shù)變大,晶格畸變增大,進(jìn)一步細(xì)化了鍍層的晶粒。[著者文摘]
脈沖電沉積Ni-Al2O3納米復(fù)合鍍層晶體結(jié)構(gòu)的變化.pdf
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