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【簡(jiǎn)介】
放射性核素制靶(源)技術(shù)在核化學(xué)研究等領(lǐng)域具有重要作用。常用制備錒系元素靶(源)的方法是電鍍法(又稱電沉積法)。該方法有沉積效率高、設(shè)備簡(jiǎn)單、操作方便，且可在襯底上獲得均勻牢固的鍍層。 常用的電鍍法均使用直流電源， 由此制備的源鍍層內(nèi)應(yīng)力大、易開(kāi)裂、沉積厚度有限。近幾年來(lái)，發(fā)展了一種新型脈沖電鍍制源技術(shù)，它采用脈沖電源，可提高電流效率，使鍍層結(jié)晶緊密、牢固，均勻性更好，源外觀平整，從而可制備厚度大于150 mg／cm 的超厚源和靶，突破了傳統(tǒng)電鍍法的局限性，是一項(xiàng)極具應(yīng)用前景的新型制源技術(shù)。
