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【簡介】
制備錒系元素靶(源)的常用方法是電鍍法(又稱電沉積法)，它具有沉積效率高、設備簡單、 操作方便等優(yōu)點，且可在襯底上獲得均勻牢固的鍍層。 常用的電鍍法均使用直流電源。用電鍍法制備的靶鍍層內(nèi)應力大，易開裂，沉積厚度有限。 近幾年來發(fā)展了1種新型脈沖電鍍制源技術(shù)。該技術(shù)采用脈沖電源，可提高電流效率，使鍍層結(jié)晶緊密、牢固，均勻性好，源外觀平整，可制備厚度大于150 mg／cm2的超厚源和靶，突破了傳統(tǒng)電鍍法的局限性，是1項極具應用前景的新型制源技術(shù)。
