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具有高激光損傷閾值的光柵分光薄膜.pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2006-05-10??瀏覽次數(shù):262 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:具有高激光損傷閾值的光柵分光薄膜.pdf

【簡介】

為慣性約束聚變(ICF)實(shí)驗(yàn)中利用光柵分光特性間接探測激光功率研究,制備具有高激光損傷閾值的光柵分光ZrO2薄膜。采用水熱法制備納米ZrO2溶膠,在80-100℃下,以20m/min速度涂敷制備出厚1-2μm、拆射率為1.57-1.70、表面粗糙度2.3nm、激光損傷閾值為25-30J/cm^2(1ns,1.06μm)的ZrO2薄膜。采用Ar^+激光器雙光束干涉曝光技術(shù)制備光柵掩膜板,光柵周期為1-2μm,深度70-100nm。通過電鍍工藝將光柵結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移至鎳板上,經(jīng)連續(xù)模壓,最終制備出光柵分光ZrO2薄膜。分析了光柵周期、模壓深度及薄膜折射率等因素對光柵一級衍射效率的影響。制備出的光柵分光ZrO2薄膜有望用于高功率激光測量。

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