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脈沖電沉積Ni—W—P—SiC復合電鍍的研究.pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2010-03-01??瀏覽次數:202 ??關注:加關注
核心提示:脈沖電沉積Ni—W—P—SiC復合電鍍的研究.pdf

【簡介】

研究了脈沖電沉積Ni—W—P—SiC復合電鍍工藝。研究表明:Ni—W—P—SiC鍍層的脈沖電沉積速率比直流電沉積的大,脈沖鍍層的耐蝕性和硬度都優(yōu)于直流鍍層,耐蝕性還優(yōu)于1Cr18Ni9Ti不銹鋼;脈沖頻率和占空比對鍍層的沉積速率、鍍層成分以及鍍層的性能都有很大的影響。SEM觀察表明,脈沖鍍層比直流鍍層的結晶更細密,表面更光滑平整。

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