??
【簡介】
通過正交試驗，確定了脈沖Ni—P—SiO2納米復合電鍍的最佳工藝。討論了工藝條件對鍍層沉積速率的影響。掃描電鏡照片表明，采用脈沖電鍍比采用直流電鍍獲得的Ni—P—SiO2納米復合鍍層的微觀形貌更好。
【簡介】
通過正交試驗，確定了脈沖Ni—P—SiO2納米復合電鍍的最佳工藝。討論了工藝條件對鍍層沉積速率的影響。掃描電鏡照片表明，采用脈沖電鍍比采用直流電鍍獲得的Ni—P—SiO2納米復合鍍層的微觀形貌更好。
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
豫公網(wǎng)安備41010502006893號
