【簡介】
通過正交試驗(yàn),確定了脈沖Ni—P—SiO2納米復(fù)合電鍍的最佳工藝。討論了工藝條件對鍍層沉積速率的影響。掃描電鏡照片表明,采用脈沖電鍍比采用直流電鍍獲得的Ni—P—SiO2納米復(fù)合鍍層的微觀形貌更好。
脈沖鎳磷復(fù)合電鍍工藝的研究.pdf