概述:電鍍鎳銅合金的國外發(fā)展概況

1963年以前，美國勃倫納(A Brenner)在他的名著《合金電沉積》(Electrodeposition of Alloys^[1])一書中第562頁對鎳銅合金已有介紹^[l]。

1921年勃魯尼(G．Bruni)和阿瑪多利(M．Amadori)提出在硫酸鎳0.03mol／L、硫酸銅0.03mol／L、酒石酸鉀鈉0．03mol／L和氨水30mL／L的溶液中室溫下電流密度0.5A／dm²的條件下電沉積鎳銅合金獲得成功^[z]。

1959年普利斯考特(B．H．Priscott)使用檸檬酸型鍍液：硫酸鎳0.15mol／L、硫酸銅0.4mol／L、檸檬酸鈉0.26mol／L、氯化鈉2g／L，55℃，電流密度2A／dm²下獲得鎳銅鍍層：結(jié)晶細(xì)致、稍有脆性、不夠均勻，但電流效率高^[3]。

1957年西爾浮斯特洛尼(P．Silve stroni)和薩托利(G A Sartori)在草酸溶液中^[4]：硫酸鎳0.04mol／L、硫酸銅0．004mol／L、草酸銨0.42mol／L、草酸0.1mol／L在25℃ 2A／dm²條件下，電沉積鎳銅合金，但草酸鹽溶解度極低，鍍層為粉末狀，難以實用。

 1979年李(A．Y．Lee)、弗爾克(W．L．Falk)和舒萬克(A．E．Schwancke)提出美國專利U．S 4167459(1979)在醋酸溶液、醋酸鎳0．5mol／L、醋酸銅0．05mol／L、硼酸15．5g／L，pH為5.5，30℃，5A／dm²電沉積鎳銅合金。

1936年高爾茲(L N．Goltze)和卡拉莫夫(V．N．Kharlamov)在銨鹽溶液中^[5]：硫酸鎳l.1mol／L，硫酸銅0.08mol／L，硫酸銨

1.2mol／L、氨水80mL／L，50℃，lA／dm²，電沉積鎳銅合金，電流效率高，氨水味很濃，鍍液中銨離子容易影響鍍層組成。

1979年薩達(dá)納(Y．N．Sadana)和凡卡塔查蘭(T．K．Venkat-aehalam)提出氨基乙酸溶液嘲：硫酸鎳0．36mol／L、硫酸銅0．036mol／L，氨基乙酸30g／L，pH為4.5，25℃，2A／dm²，電沉積鎳銅合金。

1930年斯?jié)q特(L．E．Stout)、本去(0．G．Burch)和蘭格斯多夫(A．S．Langsdorf)提出氰化物溶液^[7]：氰化鎳0．1gmol／L，氰化亞銅0.05mol／L，氰化鉀lmol／L，30℃，5A／dm²，可得到均勻細(xì)致的鎳銅合金鍍層，但電流效率低，尤其是在鍍液中有較高的游離氰化物，不能析出鎳。

1942年格納斯(D．C．Gernes)和蒙梯龍(C．H．Montillon)提出硫代硫酸鹽溶液^[8]：氯化鎳0.17mol／L，氯化亞銅0.1gmol／L，硫代硫酸鈉lmol／L，25℃，lA／dm²，可電沉積均勻的鎳銅合金鍍層，電流效率高，但鍍層含有過量的硫、鎳可能以硫化物形式存在，鍍層非常脆。

1937年客茲柴納夫斯基(J．Krzyzanowski)和古利維茲(A．Gurewicz)提出硫脲鍍液^[9]：硫酸鎳0.038mol／L，氯化亞銅0.018mol／L，硫脲94g／L，醋酸20g／L，40℃，0.5A／dm2，可沉積得半光亮淺黑色鎳銅合金鍍層。

1957年拉瑪查(T．L．Ramachar)提出焦磷酸鍍液^[10]：氯化鎳0.2mol／L，焦磷酸銅0.025mol／L，焦磷酸鉀1.4mol／L，60℃，2A／dm²，可獲得比較均勻、細(xì)致的鎳銅合金鍍層，有實際應(yīng)用價值。

參考文獻     

1 Brenner A Electro deposition of Alloys(I)．New York：A Cademic Pree，1963．562

2 Bruni G,Amadori Ml l Attie men regin acad.Sci.,lettereeol arti Padova，28(4)181．1912 

    3 Priseott B H．Trans．Inst．Metal Finishin9，1959，36 : 93

4 Silvestroni P．，Sartori G A．Ricerea Sci．，l957，17：1i56

5 GoItze L N，Khardomov V N．Zhur．Prikld．Khim．，l936，9：640

    6 Sadana Y N，Venkataehalam T K．Metal Finishin9，1979，77(8)：15

7  Stout L E，Burch O G，Langsdorf A S．Trans．Am Electrochem．Soc l930，

    57：113

8 Gernes D C,Montillon C H．Trans．Electrochem．Soc，1942，81：231

9 J．Krzyzarowski&A．GurewiczI Przemysl．Chem，1937，21：208

10 Ramachar T L．Electroplating＆Metal Finishiag，1957,10:391