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化學鍍銅層的質(zhì)量控制:電阻率

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2011-09-23??瀏覽次數(shù):381 ??關注:加關注
核心提示:化學鍍銅層的質(zhì)量控制:電阻率

化學鍍銅層的電阻率影響因素如下。

化學鍍銅液的成分。

化學鍍銅液的操作條件(pH)

化學鍍銅層的厚度。

    鍍層電阻率隨添加劑的增加而增大。

    化學鍍銅溶液的各種成分會隨著沉銅過程的連續(xù)進行而不斷消耗,分析和補加不及時就會影響鍍層質(zhì)量。在沒有自動分析補加機的情況下,就要隨時分析化學鍍銅液的各成分,并及時調(diào)整,使鍍孔始終保持在規(guī)范內(nèi)。同時應隨時測定pH值,嚴格控制pH值在工藝范圍內(nèi),維持恒定的沉積速率,控制好鍍銅層厚度,從而使鍍銅質(zhì)量得到保證。

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關鍵詞: 電阻率
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