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化學(xué)鍍銅前基板清潔處理工藝:粗化處理

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2011-09-21??瀏覽次數(shù):385 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:化學(xué)鍍銅前基板清潔處理工藝:粗化處理

    粗化的目的是使印制板有一個(gè)清潔而又粗糙的表面,使化學(xué)鍍銅層和基體銅箔之間結(jié)合牢固,保證圖形電鍍層不會(huì)分層開裂。典型粗化處理液配方如下:

硫酸(d=184)

化學(xué)純

100mL

雙氧水(30)

化學(xué)純

90mL

穩(wěn)定劑

適量

 

溫度

室溫(或加熱)

 

時(shí)間

35min

 

銅在以上粗化液中的反應(yīng)為:

Cu+H2O2+H2S04CuS04+2H20

    粗化液中沒有穩(wěn)定劑時(shí),溶解的銅離子會(huì)促使H20。快速分解:

    穩(wěn)定劑的加入可阻止H2O2分解,還可以改變蝕刻銅的速率。當(dāng)加入穩(wěn)定劑有較高的蝕刻速率時(shí)就可以在室溫下操作,當(dāng)出現(xiàn)蝕刻速率較低時(shí)則可以適當(dāng)加熱后再進(jìn)行粗化處理。

    粗化處理應(yīng)注意以下幾方面的問題。

    確定較為理想的粗化速率。銅箔粗化過量,會(huì)造成銅的浪費(fèi),還會(huì)使玻璃基體過于裸露;粗化深度不夠,又會(huì)造成化學(xué)鍍銅層與基體銅箔表面結(jié)合力下降。有條件的情況下可采用簡單的失重法來計(jì)算銅的粗化速率:

    理想的粗化速率是l15μmmin,較好的粗化速率是25μmmin

    新配制的粗化溶液。為保持粗化速率恒定,新配制的粗化液可保留14的舊液。

    應(yīng)注意操作溫度及H2O2含量對粗化速率的影響。根據(jù)生產(chǎn)量應(yīng)經(jīng)常分析H2O2的含量,并及時(shí)進(jìn)行調(diào)整。另外,連續(xù)生產(chǎn)時(shí)應(yīng)控制板面處理負(fù)載在0612dm2L之間,負(fù)載過高的情況下,溶液溫度會(huì)迅速升高,造成銅的過腐蝕故障,以致影響后續(xù)鍍銅。

    手工操作應(yīng)注意不要采用鐵制掛具。要經(jīng)常更換清洗水,保證水質(zhì)不被有害雜質(zhì)污染而使Hz0。處于穩(wěn)定狀態(tài)。

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