影響:
①鋅含量過(guò)低,電流密度上限和電流效率降低,鍍鋅速度慢;含量過(guò)高鍍層粗糙且發(fā)暗,分散能力和深鍍能力也低;
②氫氧化鈉含量過(guò)低,陽(yáng)極鈍化,槽電壓升高,鍍層發(fā)暗、粗糙}含量過(guò)高,陽(yáng)極溶解快,導(dǎo)致鋅含量不斷升高,鍍層粗糙。
處理方法:
①一般控制鋅含量在8~
②為使溶液穩(wěn)定,應(yīng)控制在[NaOH-]/[Zn2+]=8~10或[NaOH-]/[ZnO]=10~12之間。
影響:
①鋅含量過(guò)低,電流密度上限和電流效率降低,鍍鋅速度慢;含量過(guò)高鍍層粗糙且發(fā)暗,分散能力和深鍍能力也低;
②氫氧化鈉含量過(guò)低,陽(yáng)極鈍化,槽電壓升高,鍍層發(fā)暗、粗糙}含量過(guò)高,陽(yáng)極溶解快,導(dǎo)致鋅含量不斷升高,鍍層粗糙。
處理方法:
①一般控制鋅含量在8~
②為使溶液穩(wěn)定,應(yīng)控制在[NaOH-]/[Zn2+]=8~10或[NaOH-]/[ZnO]=10~12之間。
