(中國(guó)計(jì)量學(xué)院材料科學(xué)與工程學(xué)院,浙江杭州310018)
摘要:采用化學(xué)鍍制備Co-Pt-Mo合金鍍層,研究了pH值及溫度對(duì)鍍層表面形貌、成分和磁性能的影響。結(jié)果表明:隨著pH值的升高,鍍層中鈷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)增加,致使鍍層的比飽和磁化強(qiáng)度增大;溫度對(duì)鍍層的成分及矯頑力并無(wú)影響,但是溫度過(guò)高時(shí)反應(yīng)速率過(guò)快,致使鍍層表面出現(xiàn)“孔洞”。
關(guān)鍵詞:合金鍍層;化學(xué)鍍;矯頑力;比飽和磁化強(qiáng)度
中圖分類號(hào):TQ 153 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1000-4742(2012)06-0026-04
0前言
采用化學(xué)鍍制備合金具有反應(yīng)溫度低、靈活的沉積選擇性、能夠得到亞微米級(jí)微粒等優(yōu)點(diǎn),目前已廣泛用于導(dǎo)電、磁性、裝飾合金層的制備。鈷基合金是一種典型的磁性材料,可用作微電機(jī)系統(tǒng)的器件、磁頭、讀卡器和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)[1-2]。近年來(lái),Co-Pt和Co-Pt-W磁性合金已在電子制造業(yè)中得到廣泛應(yīng)用[3-4]。鎢和鉬在元素周期表中同屬VIB族,且鉬酸根的還原電位與鎢酸根的相近。因此,本文采用化學(xué)鍍制備Co-Pt-Mo合金鍍層,研究了pH值及溫度對(duì)鍍層表面形貌、成分和磁性能的影響。
1 實(shí)驗(yàn)
1.1 鍍液配方及工藝條件

1.2試樣制備
將經(jīng)過(guò)拋光處理的黃銅基體切成2 cm×3 cm,并用質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3%的鹽酸清洗掉其表面的氧化層。待溶液變渾濁時(shí)放人黃銅片,化學(xué)鍍30 min后取出,用純水清洗并用吹風(fēng)機(jī)吹干。
1.3測(cè)試方法
采用Hitachi S-4700型場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡觀察鍍層的表面形貌。采用EDX 1800B型X射線熒光光譜儀測(cè)試鍍層的厚度并分析鍍層的成分。采用Lake Shore 7407型振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)測(cè)定試樣在室溫下的磁滯回線。
2 結(jié)果與討論
2.1 pH值的影響
在鉬鹽0. 005 mol/L,溫度85℃的條件下,測(cè)試pH值對(duì)鍍層厚度及成分的影響,實(shí)驗(yàn)結(jié)果,如表1所示。由表1可知:隨著pH值的升高,鍍層中Co的質(zhì)量分?jǐn)?shù)逐漸增加。這是由于OH-的濃度的增加有利于次磷酸鈉還原[CoXn]2+而沉積得到Co。雖然pH值的升高有利于增強(qiáng)次磷酸鈉的還原性,使溶液的反應(yīng)速率加快,但是對(duì)鍍層的厚度并沒有顯著的影響。其原因?yàn)榛瘜W(xué)鍍中當(dāng)鍍層達(dá)到一定厚度后就不會(huì)繼續(xù)沉積在基體上。

圖1為pH值對(duì)鍍層表面形貌的影響。由圖1可知:當(dāng)pH值為11.5~13.O時(shí),鍍層表面的球形微粒較小且分布均勻、致密;當(dāng)pH值升高至13.5時(shí),微粒大小不均勻,且發(fā)生團(tuán)聚現(xiàn)象。這是因?yàn)閜H值的升高加快了反應(yīng)速率,同時(shí)鍍層表面產(chǎn)生大量的氫氣,導(dǎo)致鍍層表面產(chǎn)生“孔洞”。

圖2為在不同pH值下所得鍍層的磁滯回線。由圖2可知:垂直方向的矯頑力普遍比平行方向的矯頑力大。這是因?yàn)镃o-Pt-Mo合金鍍層的磁性存在垂直各向異性,其中垂直矯頑力都在300 kA/m以上,且在pH值為13時(shí)達(dá)到最大值371 kA/m,這比Co-Pt-W合金鍍層的矯頑力普遍要高[5]。圖3為pH值對(duì)鍍層比飽和磁化強(qiáng)度的影響。由圖3可知:隨著pH值的升高,鍍層的比飽和磁化強(qiáng)度逐漸增大。從前面的分析可知,隨著pH值的升高,鍍層中Co的質(zhì)量分?jǐn)?shù)不斷增加。根據(jù)磁化理論,比飽和磁化強(qiáng)度僅取決于原子磁矩的大小和單位體積的原子數(shù),即:與材料的成分有關(guān)。而Co是有磁性的微粒,材料中Co的質(zhì)量分?jǐn)?shù)較高,可以增大鍍層的比飽和磁化強(qiáng)度。

2.2溫度的影響
表2為溫度對(duì)鍍層厚度及成分的影響。溫度對(duì)反應(yīng)速率有著很大的影響,但是從表2來(lái)看,隨著溫度的升高,鍍層的厚度變化很小,且對(duì)鍍層的成分也無(wú)顯著影響。


在pH值為13的條件下,測(cè)試溫度對(duì)鍍層表面形貌的影響,實(shí)驗(yàn)結(jié)果,如圖4所示。由圖4可知:當(dāng)溫度為70~80℃時(shí),鍍層表面的球形微粒分布均勻、致密;當(dāng)溫度為90℃時(shí),鍍層表面的微粒分均勻,呈六方形,但是表面凹凸不平,存在明顯的“孔洞”。這同樣是由于反應(yīng)速率過(guò)快產(chǎn)生大量的氫氣,致使金屬離子無(wú)法穩(wěn)定地沉積。

圖5為在不同溫度下所得鍍層的磁滯回線。由圖5可知:矯頑力的變化沒有規(guī)律。溫度較高時(shí),由于鍍層表面出現(xiàn)“孔洞”,導(dǎo)致矯頑力大幅下降;溫度較低時(shí),反應(yīng)速率太慢,所以溫度取85℃為宜。

3 結(jié)論
本文采用化學(xué)鍍制備Co-Pt-Mo合金鍍層,研究了pH值及溫度對(duì)鍍層表面形貌、成分和磁性能的影響,得到以下結(jié)論:
(1)隨著pH值的升高,鍍層中鈷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)增加,致使鍍層的比飽和磁化強(qiáng)度增大。當(dāng)pH值為13時(shí),鍍層表面的微粒分布均勻、致密,且矯頑力最大。因此,pH值取13為宜。
(2)溫度對(duì)鍍層的成分及矯頑力并無(wú)影響,但是溫度過(guò)高時(shí)反應(yīng)速率過(guò)快,致使鍍層表面出現(xiàn)“孔洞”。因此,溫度取85 0C為宜。
參考文獻(xiàn):
[1]ARIAKE J,CHIBA T,WATANABE S,et岔Z.Magnetic and structural properties of Co-Pt perpendicular recording media with large magnetic anisotropy [J]. Journal of Magnetism and Magnetic Materials,2005, 287(1):229-233.
[2]XU X,WESTON J,ZANGARI G.Fine tuning of coercivity in electrodeposited, Co rich Co-Pt alloy films with perpendicular orientation[J]. Journal of Applied Physics,2007,101(9):520-522.
[3]ZANA I,ZANGARI G,SHAMSUZZOHA M.Enhancing the perpendicular magnetic anisotropy of Co-Pt (P) films by epitaxial electrodeposition onto Cu (111) substrates [J]. Journal of Magnetism and Magnetic Materials,2005, 292(1):266-280.
[4]RHEN F M F,COEY J M D.Structural characterization and magnetic properties of electrodeposited Co-Pt alloys [J]. Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 2004, 272(1):883-884.
[5]WEI G Y,JIN Y B.YU Y D,et以.Electroless deposition of CoPtWP magnetic thin films [J]. Thin Solid Films, 2010, 519(4):1 259-1 265.