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該成果是最終成果。適用于光學(xué)工業(yè)鍍制各類(lèi)光學(xué)膜，如干涉濾光片、增透膜、減反射膜、各種光學(xué)鏡頭的多層介質(zhì)膜等，也適用于電子工業(yè)鍍制各種電學(xué)膜。設(shè)計(jì)上采用先進(jìn)的箱式結(jié)構(gòu)、大抽速擴(kuò)散泵、e型磁偏轉(zhuǎn)電子槍、大通導(dǎo)抽屈式冷阱等，抽速大，恢復(fù)真空時(shí)間快，適宜于工業(yè)生產(chǎn)使用，現(xiàn)已生產(chǎn)50余臺(tái)，新增產(chǎn)值700萬(wàn)元，年平均新增產(chǎn)值100萬(wàn)元;新增利稅150萬(wàn)元，年平均20萬(wàn)元。國(guó)內(nèi)已推廣應(yīng)用20多家單位，深受用戶好評(píng)。蒸發(fā)室尺寸(直徑×850mm;可鍍基片有鏟面積：0.3M〈’2〉;極限真空度：使用液氮：優(yōu)于9.3×10〈’-5〉帕，不使用液氮： 地2.66×10〈’-4〉帕;抽氣速率：從大氣壓至4×10〈’-3〉帕小于15分鐘;電阻蒸發(fā)源：2對(duì)，功率3KW/對(duì);電子束蒸發(fā)源：1～2支e型磁控偏轉(zhuǎn)電子槍;最大功率5KW/支;工件夾具形式：平面、球面、扇形、行星式;控制波長(zhǎng)范圍：常用400～700nm，可擴(kuò)展至240～1000nm;總功率：20KW;消耗水：20升/分鐘。該設(shè)備已形成批量生產(chǎn)能力。
完成單位：成都國(guó)營(yíng)南光機(jī)器廠
聯(lián)系電話：(028)441978
郵政編碼：610062
成果類(lèi)別：應(yīng)用技術(shù)
限制使用：國(guó)內(nèi)
成果密級(jí)：非密
鑒定日期：19881100
應(yīng)用行業(yè)：電子器件制造
轉(zhuǎn)讓方式：技術(shù)開(kāi)發(fā)和合資經(jīng)營(yíng)
分類(lèi)號(hào)：TN305.8
