??
滾鍍光亮鎳的工藝與掛鍍是有所不同的，這主要表現(xiàn)在主鹽的濃度滾鍍要稍低一點(diǎn)，pH值也要低一點(diǎn)，同樣，陰極電流密度也低一些。具體工藝如下：
硫酸鎳 200～240g/L
氯化鎳 50～60g/L
硼酸 40～45g/L
光亮劑(開(kāi)缸劑、補(bǔ)加劑、潤(rùn)濕劑) 適量
溫度 50～60℃
pH值 3.8～4.6
陰極電流密度 0.1～1.0/dm2 需要連續(xù)過(guò)濾
滾鍍光亮鎳的工藝與掛鍍是有所不同的，這主要表現(xiàn)在主鹽的濃度滾鍍要稍低一點(diǎn)，pH值也要低一點(diǎn)，同樣，陰極電流密度也低一些。具體工藝如下：
硫酸鎳 200～240g/L
氯化鎳 50～60g/L
硼酸 40～45g/L
光亮劑(開(kāi)缸劑、補(bǔ)加劑、潤(rùn)濕劑) 適量
溫度 50～60℃
pH值 3.8～4.6
陰極電流密度 0.1～1.0/dm2 需要連續(xù)過(guò)濾
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
