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摘要：在所有本文進行的電鍍實驗中，陰極電流效率基本都大于90％，這表明陰極表面基本無副反應發(fā)生。THF體系電流分布較好，可在形狀較復雜的基體表面沉積出均勻連續(xù)的鋁鍍層。當LiAlH4的摩爾含量比高于0.25，電流密度不超過4A/dm2時，電沉積鋁的能耗是可以接受的。當鍍液中AlCl3與LiAlH4的摩爾比為3:1時，獲得的鋁鍍層的耐蝕性最好。
摘要：在所有本文進行的電鍍實驗中，陰極電流效率基本都大于90％，這表明陰極表面基本無副反應發(fā)生。THF體系電流分布較好，可在形狀較復雜的基體表面沉積出均勻連續(xù)的鋁鍍層。當LiAlH4的摩爾含量比高于0.25，電流密度不超過4A/dm2時，電沉積鋁的能耗是可以接受的。當鍍液中AlCl3與LiAlH4的摩爾比為3:1時，獲得的鋁鍍層的耐蝕性最好。
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