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電沉積NiHCF薄膜的離子選擇性研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-09-26??瀏覽次數(shù):535 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:摘要:采用電沉積方法在鉑、鋁基體上制備出具有電化學(xué)控制離子交換(ESIX)性能的電活性NiHCF(Nickel Hexacyanoferrate)薄膜,

摘要:采用電沉積方法在鉑、鋁基體上制備出具有電化學(xué)控制離子交換(ESIX)性能的電活性NiHCF(Nickel Hexacyanoferrate)薄膜,在1m01/L(NaNO3+CsNO3)和1mol/L(KN03+Cs-NO3)混合溶液中分別測(cè)定了不同Cs+濃度下薄膜的伏安特性曲線和電化學(xué)交流阻抗譜,并根據(jù)CV曲線和EIS曲線的變化特征分析了薄膜對(duì)Cs+/K+和Cs+/Na+離子的選擇性。結(jié)果表明,交流阻抗技術(shù)與循環(huán)伏安法相結(jié)合可較好地用來(lái)表征混合溶液中離子膜的選擇性。

   電沉積NiHCF薄膜的離子選擇性研究.pdf
 

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