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利用AAO模板電沉積工藝制備ZnS納米線

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-09-06??瀏覽次數(shù):472 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:摘要:以沒有去除阻擋層的陽極氧化鋁膜作為模板,在溶解有ZnCl2和單質(zhì)硫的二甲基亞砜溶液中進(jìn)行直流電沉積,并將電沉積所得的樣

摘要:以沒有去除阻擋層的陽極氧化鋁膜作為模板,在溶解有ZnCl2和單質(zhì)硫的二甲基亞砜溶液中進(jìn)行直流電沉積,并將電沉積所得的樣品在不同氣氛下退火。SEM,TEM及拉曼光譜的結(jié)果表明,采用上述工藝制備的納米線長幾個(gè)微米,直徑為30nm左右,為多晶,在N2氣氛下退火得到的是立方相ZnS納米線,空氣氣氛下退火得到的是六方相ZnO納米線,由于納米線的尺寸限制效應(yīng)及晶格畸變,拉曼譜中的峰位向短波數(shù)移動(dòng)。

   利用AAO模板電沉積工藝制備ZnS納米線.pdf
 

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