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摘要：在磁場下電沉積制備CuCo功能膜材料，研究膜層的巨磁電阻效應及磁性能。應用X射線衍射儀（XRD）對鍍層微觀結構隨熱處理溫度的變化進行分析，采用四引線法及振動樣品磁強計（VSM）測量膜層的磁性能。磁阻測試發(fā)現(xiàn)：磁感應強度為0.6T下制備的CuCo顆粒膜經(jīng)500℃真空退火處理1h后，其巨磁電阻值較無磁場下制備的提高約25%，這是由于0.6T下制備的顆粒膜晶粒較致密，同時磁場減少了膜層內部缺陷，如雜質、夾雜等。樣品磁滯回線表明：500℃真空退火處理1h后膜層具有最佳的磁性能，此時膜層中的單磁疇磁性粒子有助于提高巨磁電阻值。CuCo顆粒膜電沉積制備過程中施加磁場可以改善膜層的微觀結構，使其具有更高的巨磁電阻效應。
