鍍覆方法、導(dǎo)電膜及透光電磁波屏蔽膜

公開日       20080424

發(fā)明人  MATSUMOTO J

地址  Buchanan, Ingersoll & Rooney PC, Post Office Box 1404, Alexandria, VA 22313-1404, U.S.

一種鍍覆方法，可連續(xù)電鍍表面電阻為1 ~ 1 000 Ω/sq的膜層，鍍液中的銅以五水合硫酸銅的形式添加，其質(zhì)量濃度為150 ~ 300 g/L。