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電鍍厚度表示方法

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-17??瀏覽次數(shù):1218 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:電鍍厚度:在現(xiàn)在電子連接器端子的電鍍厚度的表示法有a .``.微英寸,b. m,微米, 1 m約等于40``.1.TinLead Alloy Plating :錫鉛合

電鍍厚度:在現(xiàn)在電子連接器端子的電鍍厚度的表示法有a .µ``.微英寸,b. µm,微米, 1 µm約等于40µ``.

1.Tin—Lead Alloy Plating :錫鉛合金電鍍

作為焊接用途,一般膜厚在100~150µ``最多.

2.Nickel Plating 鎳電鍍

現(xiàn)在電子連接器皆以打底(underplating),故在50µ``以上為一般規(guī)格,較低的規(guī)格為30µ``,(可能考慮到折彎或者成本)

3.Gold Plating 金電鍍

為昂貴的電鍍加工,故一般電子業(yè)在選用規(guī)格時(shí),考慮到其實(shí)用環(huán)境、使用對象,制造成本,若需通過一般強(qiáng)腐蝕實(shí)驗(yàn)必須在50µ``以上 .

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