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印制電路技術(shù)發(fā)展方向的探索

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-16??瀏覽次數(shù):519 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:印制電路技術(shù)發(fā)展方向的探索

摘 要:從七個方面論述印制電路技術(shù)適期發(fā)展趨勢,并探索其今后的發(fā)展方向。作者的結(jié)論是:加成法、半加成法與通用的成成法同時并存;圖形蝕刻法不再是制造印制板的唯一方法;過去為人們所稱道的酸性膠體鈀已經(jīng)暴露出許多不可克服的缺陷;鍍前處理出現(xiàn)新的高錳酸鹽凹蝕/去膩污工藝;曾經(jīng)是先進技術(shù)的光亮鉛錫電鍍逐漸為不光亮鉛錫電鍍加熱風整平技術(shù)所更新;直流的、慢沉積、高氰化合物插頭鍍金已被脈沖、高速、低氰或無氰插頭鍍金所汰淘;一種新型的過氧化氫/硫酸蝕刻技術(shù)顯示了強大的生命力,與常用蝕刻技術(shù)完全不同的有機蝕刻銅試劑已經(jīng)問世。

印制電路技術(shù)發(fā)展方向的探索.pdf
 

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