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高電流密度下Zn—Ni合金電鍍工藝

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-14??瀏覽次數(shù):425 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:高電流密度下Zn—Ni合金電鍍工藝

摘 要:在10~30A/dm^2電流密度范圍內(nèi)對(duì)硫酸鹽體系鋅-鎳合金電沉積的規(guī)律進(jìn)行了研究,確定了準(zhǔn)動(dòng)態(tài)鋅-鎳合金電鍍工藝。鋅-鎳合金電沉積是異常共沉積。[NiSO4·6H2O]/[NiSO4·6H2O+ZnSO4·7H2O]濃度比增加使鍍層中鎳含量增大;電流密度增加使鍍層中鎳含量下降。準(zhǔn)動(dòng)態(tài)鋅-鎳合金電鍍工藝陰極電流效率為95%,電沉積速度為38g/m^2·min;鍍得的鍍層外觀為青白色帶有金屬光澤的良

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