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Ni—W非晶態(tài)合金電沉積方法及結(jié)構(gòu)研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-13??瀏覽次數(shù):295 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:Ni—W非晶態(tài)合金電沉積方法及結(jié)構(gòu)研究

摘 要:研究了Ni-W非晶態(tài)合金的電沉積方法,討論了電解液組成、溫度及pH值對鍍層組成及鍍層結(jié)構(gòu)的影響,獲得了Ni-W合金鍍層結(jié)晶-非晶區(qū)域圖。根據(jù)鍍層的X射線衍射實驗結(jié)果,研究了鍍層結(jié)構(gòu)及非晶態(tài)結(jié)構(gòu)的形成機理。

Ni—W非晶態(tài)合金電沉積方法及結(jié)構(gòu)研究.pdf
 

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