摘 要:首次采用恒電流電沉積方式在P型Si(111)上制備出Ni-W-P合金薄膜。考察了電沉積條件對(duì)鍍支組成的影響,確定了軒表面致密、具有良好的結(jié)合力的Ni-W-P合金薄膜的最工藝條件。
P型Si上電沉積Ni—W—P合金薄膜.pdf