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摘 要:介紹了一種新的電沉積非晶態(tài)Ｆｅ－Ｎｉ合金的方法。用這種方法在室溫下電沉積出的Ｆｅ－Ｎｉ合金鍍層外觀接近鏡面。經(jīng)Ｘ－射線衍射及等離子光譜分析證實(shí)，所獲得的Ｆｅ－Ｎｉ合金鍍層為非晶態(tài)結(jié)構(gòu)，鍍層中Ｆｅ和Ｎｉ含量分別為７３％－７７％和２０％－２４％，同時(shí)含有１．５％－５．０％的Ｐ和少量的Ｃｒ和Ｂ。
摘 要:介紹了一種新的電沉積非晶態(tài)Ｆｅ－Ｎｉ合金的方法。用這種方法在室溫下電沉積出的Ｆｅ－Ｎｉ合金鍍層外觀接近鏡面。經(jīng)Ｘ－射線衍射及等離子光譜分析證實(shí)，所獲得的Ｆｅ－Ｎｉ合金鍍層為非晶態(tài)結(jié)構(gòu)，鍍層中Ｆｅ和Ｎｉ含量分別為７３％－７７％和２０％－２４％，同時(shí)含有１．５％－５．０％的Ｐ和少量的Ｃｒ和Ｂ。
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