Ni—SiC復合電鍍沉積機理的研究

發(fā)布日期：2012-05-13??瀏覽次數(shù)：315 ??關注：加關注

核心提示：Ni—SiC復合電鍍沉積機理的研究

摘　要:對Ｎｉ－ＳｉＣ體系的復合電鍍的電沉積機理進行了探討和研究，并提出了一套求動力學參數(shù)的方法，經(jīng)實驗證實，理論推導與實驗結果相符。

關鍵詞： 關鍵詞:Ni－SiC鍍層復合鍍電沉積

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