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摘 要:研究了Ｎｉ－Ｗ－Ｐ三元合金層的電沉積方法；討論了電沉積液的溫度，ｐＨ值和陰極電流密度（Ｄｋ）對(duì)鍍層結(jié)構(gòu)及成分的影響；同時(shí)對(duì)電沉積液的ｐＨ值和陰極電流密度對(duì)鍍層的硬度及耐蝕性的影響進(jìn)行了研究。
摘 要:研究了Ｎｉ－Ｗ－Ｐ三元合金層的電沉積方法；討論了電沉積液的溫度，ｐＨ值和陰極電流密度（Ｄｋ）對(duì)鍍層結(jié)構(gòu)及成分的影響；同時(shí)對(duì)電沉積液的ｐＨ值和陰極電流密度對(duì)鍍層的硬度及耐蝕性的影響進(jìn)行了研究。
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