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摘 要:在ＨＡc－ＮaＡc緩沖介質(zhì)中，痕量鉻（Ⅵ）對(duì)過(guò)氧化氫與羅丹明Ｂ的氧化還原反應(yīng)具有催 化作用，使羅丹明Ｂ的熒光減弱，據(jù)此建立了催化熒光法測(cè)定痕量鉻（Ⅵ）的新方法。方法的檢測(cè)限為３．３２ｒｇ／Ｌ，測(cè)定范圍為０．０１～０．１６ｍｇ／ＬＣｒ（Ⅵ）。本法已用于測(cè)定電鍍液、電鍍廢液中痕量Ｃr（Ⅵ），結(jié)果令人滿意。
摘 要:在ＨＡc－ＮaＡc緩沖介質(zhì)中，痕量鉻（Ⅵ）對(duì)過(guò)氧化氫與羅丹明Ｂ的氧化還原反應(yīng)具有催 化作用，使羅丹明Ｂ的熒光減弱，據(jù)此建立了催化熒光法測(cè)定痕量鉻（Ⅵ）的新方法。方法的檢測(cè)限為３．３２ｒｇ／Ｌ，測(cè)定范圍為０．０１～０．１６ｍｇ／ＬＣｒ（Ⅵ）。本法已用于測(cè)定電鍍液、電鍍廢液中痕量Ｃr（Ⅵ），結(jié)果令人滿意。
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