摘 要:Hull槽研究一直是電鍍工藝控制和開發(fā)最常用的試驗之一，但是，傳統(tǒng)的Hull槽并不能模擬攪拌的影響，利用具有旋轉圓柱陰極的Hull槽可以克服這一缺點，而且不需要隔離室，可以直接浸入工作電解液中。
具有旋轉圓柱的Hull槽（RCH—Cell）.pdf
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