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摘 要:利用掃描電鏡、X射線能譜儀及電化學(xué)測(cè)試技術(shù)對(duì)貧鈾表面脈沖電鍍鎳層的腐蝕機(jī)理進(jìn)行了研究。結(jié)果表明：在含50μg／g Cl^-的KCl溶液中，首先，在鈾表面鎳鍍層的孔隙處發(fā)生腐蝕并逐漸擴(kuò)展到鈾／鎳界面；腐蝕產(chǎn)物在界面的積累導(dǎo)致鎳鍍層開(kāi)裂；鎳對(duì)鈾是一種陰極性鍍層，鈾鎳接觸發(fā)生電偶腐蝕，鎳對(duì)鈾的保護(hù)作用基于鎳鍍層對(duì)腐蝕介質(zhì)的物理屏障，提高鍍層的致密性可改善鎳鍍層對(duì)鈾基體的抗腐蝕能力。
