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摘 要:磁控濺射技術(shù)已經(jīng)成為沉積耐磨、耐蝕、裝飾、光學(xué)及其他各種功能薄膜的重要手段。探討了磁控濺射技術(shù)在非平衡磁場濺射、脈沖磁控濺射等方面的進(jìn)步，說明利用新型的磁控濺射技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜的高速沉積、高純薄膜制備、提高反應(yīng)濺射沉積薄膜的質(zhì)量等，并進(jìn)一步取代電鍍等傳統(tǒng)表面處理技術(shù)。最后呼吁石化行業(yè)應(yīng)大力發(fā)展和應(yīng)用磁控濺射技術(shù)。
