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脈沖電沉積Ni-SiC復(fù)合鍍工藝的研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-11??瀏覽次數(shù):418 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:脈沖電沉積Ni-SiC復(fù)合鍍工藝的研究

摘 要:采用脈沖電鍍在45^#鋼表面制備含有SiC微粒的鎳基復(fù)合鍍層,研究了鍍液中SiC的質(zhì)量濃度、脈沖平均電流密度、pH值對Ni-SiC復(fù)合鍍層的影響規(guī)律。結(jié)果表明:電鍍工藝條件的改變影響復(fù)合鍍層中SiC的共沉積量和鍍層的硬度,當(dāng)鍍液中SiC質(zhì)量濃度為20g/L,平均電流密度為40A/dm^2時(shí),鍍層中SiC體積分?jǐn)?shù)為14.3%,硬度約為鎳鍍層的1.7倍。

脈沖電沉積Ni-SiC復(fù)合鍍工藝的研究.pdf
 

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