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Ni—Si3N4復(fù)合電鍍工藝與耐磨性研究

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-10??瀏覽次數(shù):277 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:Ni—Si3N4復(fù)合電鍍工藝與耐磨性研究

摘 要:研究了鍍液Si3N4濃度,陰極電流密度、pH值、溫度和攪拌方式等工藝參數(shù)對(duì)Ni—Si3N4復(fù)合鍍層微粒含量和鍍層硬度的影響,在盤(pán)銷(xiāo)摩擦磨損實(shí)驗(yàn)機(jī)上對(duì)鍍層進(jìn)行了磨損實(shí)驗(yàn)。通過(guò)實(shí)驗(yàn)確定了Ni-Si3N4復(fù)合電鍍的最佳工藝。結(jié)果表明:隨著Si3N4共析量的增多復(fù)合鍍層硬度提高,耐磨性增強(qiáng);在浸油潤(rùn)滑的條件下,復(fù)合鍍層的摩擦因數(shù)低于純鎳鍍層,復(fù)合鍍層的磨損量小于普通鍍鎳層。磨痕表面觀察表明復(fù)合鍍層的磨損以磨料磨損為主。[著者文摘]

Ni—Si3N4復(fù)合電鍍工藝與耐磨性研究.pdf
 

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