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光亮錫鎳合金電沉積新工藝

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-10??瀏覽次數(shù):395 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:光亮錫鎳合金電沉積新工藝

摘 要:在研究堿性錫鎳合金的電沉積過程中,討論了鍍液中各成分的含量、電鍍工藝條件的改變及添加劑對錫鎳合金鍍層成分和外觀的影響規(guī)律。獲得了內(nèi)應(yīng)力小,同基體結(jié)合力好,表面光亮、平整致密,具有高耐蝕性的合金鍍層。優(yōu)化工藝為:SnCl215g/L,NiSO4·6H2O35g/L,kP2O7·3H2O260g/L,NH4Cl12g/L,糖精2g/L,十二烷基磺酸鈉2.5g/L,對苯二酚1.5g/L,pH8.5,Dk1.5A/dm^2,溫度30℃。[著者文摘]

光亮錫鎳合金電沉積新工藝.pdf
 

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