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Ni-Co-PTFE自潤滑復合電鍍層的制備及沉積機理

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-05-10??瀏覽次數(shù):362 ??關注:加關注
核心提示:Ni-Co-PTFE自潤滑復合電鍍層的制備及沉積機理

摘 要:對Ni-Co-PTFE自潤滑復合電鍍層的制備工藝條件及其電沉積機理進行了研究.考察了各實驗因素對鍍層摩擦性能的影響情況,其最佳工藝條件為:CoSO425 g.l^-1(相對于NiSO4200g.l^-1),電流密度4.0A.dm^-2,反應溫度50℃,反應時間75min,鍍層pH值3.5,PTFE50g.l^-1.該復合電鍍層具有良好的硬度和潤滑性能.[著者文摘]

Ni-Co-PTFE自潤滑復合電鍍層的制備及沉積機理.pdf
 

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